カスタムルックのプロトタイプ
最大モデルに飛ばずにスタイル制御を探索します。
非蒸留 FLUX.2 Klein 4B — ベースウェイト制御と最大 5 枚の参照で、高速かつ柔軟な AI 画像生成と画像編集。
非蒸留 FLUX.2 Klein 4B — ベースウェイト制御と最大 5 枚の参照で、高速かつ柔軟な AI 画像生成と画像編集。
最大モデルに飛ばずにスタイル制御を探索します。
スケールアップ前に、複数アップロードの相互作用を検証します。
小さく柔軟なベースモデルが必要なパイプラインに適しています。
軽量カスタムワークフロー向けの小さな Klein ベースウェイトです。
最大 5 枚をアップロードし、スタイル、被写体、レイアウトを誘導します。
アイデアテスト時、より大きなベースティアよりオーバーヘッドが低いです。
素早いレイアウト確認向けの標準アスペクト比です。
蒸留モデルが硬すぎると感じるときに有用です。
まず被写体を書き、次に照明、スタイル、変えずに残したい要素を加えます。よりコントロールした編集が必要なときは参照画像をアップロードしてください。
ベース Klein は、明確な被写体とスタイル指示に最もよく応答します。
4B Base で探索、蒸留 Klein または Pro で納品します。
シンプルに始め — 複雑さは小さなベース結果を曇らせることがあります。
納品物により高い画質が必要なときアップグレードしてください。
Klein ティアを速度、サイズ、制御で比較 — 下書きまたは制作ワークフローに合うモデルを開きます。
| 機能 | FLUX.2 Klein 9B ページを開く | FLUX.2 Klein 4B ページを開く | FLUX.2 Klein 9B Base ページを開く | FLUX.2 Klein 4B Base現在 このモデルを表示中です |
|---|---|---|---|---|
| 最適用途 | 高速で柔軟な制作 | 最速の下書きとプレビュー | カスタムスタイルとベースウェイト制御 | 軽量カスタム制御 |
| 速度 | 非常に高速 | 最速 | 中程度 | 高速 |
| モデルサイズ | 9B 蒸留 | 4B 蒸留 | 9B base | 4B base |
| 複数画像編集 | 最大 5 枚の参照 | 最大 5 枚の参照 | 最大 5 枚の参照 | 最大 5 枚の参照 |
| クリエイティブ制御 | バランス型デフォルト | 最小設定 | 高い柔軟性 | 柔軟なベースウェイト |
| 画像編集 | しっかりした参照編集 | 軽量参照編集 | 強力な参照編集 | 参照ガイド編集 |